作者:楊怡,陳果(杭州士蘭集昕微電子有限公司,浙江 杭州 310000)
摘要:大束流離子注入機是半導體行業中一種十分重要的設備,在生產過程中,影響注入機產品良率和產能的關鍵因素是顆粒的多少。大束流離子注入機采用靶盤式結構,腔體空間大,腔體內真空度相較于中束流離子注入機低,束流路徑大,因此產生顆粒的幾率更大。本文先分析了大束流離子注入機顆粒產生的原因,然后提出了氣體傳導率限制縫和鋸齒石墨兩種減少顆粒的結構設計,并進行了實驗驗證,最后給出了顆粒偏高后查找顆粒源的幾種方法。
關鍵詞:離子注入機;顆粒減少;氣體傳導率限制縫;鋸齒石墨;顆粒源
在線預覽:大束流離子注入機顆粒改善
摘自《自動化博覽》2018年7月刊