來源:中國儀表網
光學元件作為與光學研究息息相關的儀器儀表,影響著社會生活中的方方面面。據中科院光電技術研究所(以下簡稱“光電所”)消息,近日,為保障大口徑反射元件的發射率的準確測量,光電所基于測試技術平臺的基礎,在大口徑反射光學元件高反射率均勻性測試研究中取得重大突破。
由光學鍍膜完成的大口徑反射光學元件光譜(反射率)非均勻性作為重要的技術參數,對于其測量準確度要求極高。只有滿足一定的的技術要求才能運用在系統中,以達到保障反射光學的質量,滿足系統正常運行的目標。
據悉,此項測試技術由光電所薄膜光學測試研究團隊提供測試技術平臺,主要技術突破在于實 現了大口徑反射元件反射率分布的二維高分辨成像測量。同時,也可提供反射率測量的時間指數衰減擬合曲線和鏡面反射率掃描的三維測試結果。而該測試裝置也為 大口徑光學元件反射率評估和優化提供了重要技術支持,助力我國光學元件產業快速發展。
此研究項目得到了中科院的項目資助,研究成果發布引發了產業廣泛關注。