來源:中國儀表網(wǎng)
光學(xué)元件作為與光學(xué)研究息息相關(guān)的儀器儀表,影響著社會生活中的方方面面。據(jù)中科院光電技術(shù)研究所(以下簡稱“光電所”)消息,近日,為保障大口徑反射元件的發(fā)射率的準(zhǔn)確測量,光電所基于測試技術(shù)平臺的基礎(chǔ),在大口徑反射光學(xué)元件高反射率均勻性測試研究中取得重大突破。
由光學(xué)鍍膜完成的大口徑反射光學(xué)元件光譜(反射率)非均勻性作為重要的技術(shù)參數(shù),對于其測量準(zhǔn)確度要求極高。只有滿足一定的的技術(shù)要求才能運(yùn)用在系統(tǒng)中,以達(dá)到保障反射光學(xué)的質(zhì)量,滿足系統(tǒng)正常運(yùn)行的目標(biāo)。
據(jù)悉,此項測試技術(shù)由光電所薄膜光學(xué)測試研究團(tuán)隊提供測試技術(shù)平臺,主要技術(shù)突破在于實(shí) 現(xiàn)了大口徑反射元件反射率分布的二維高分辨成像測量。同時,也可提供反射率測量的時間指數(shù)衰減擬合曲線和鏡面反射率掃描的三維測試結(jié)果。而該測試裝置也為 大口徑光學(xué)元件反射率評估和優(yōu)化提供了重要技術(shù)支持,助力我國光學(xué)元件產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展。
此研究項目得到了中科院的項目資助,研究成果發(fā)布引發(fā)了產(chǎn)業(yè)廣泛關(guān)注。